Aplikasi Substrat Aluminium Nitrida
Karena konduktivitas termalnya yang tinggi dan insulasi listrik yang baik, AlN digunakan dalam industri mikroelektronik.
Oksidasi permukaan terjadi di udara bahkan pada suhu kamar, namun lapisan aluminium oksida dapat melindungi material hingga 1370 C. Metode metalisasi tersedia untuk memungkinkan aluminium nitrida digunakan dalam aplikasi elektronik serupa dengan alumina dan berilium oksida.
Kekerasan keramik aluminium nitrida bahkan lebih tinggi dibandingkan alumina, keramik teknis tradisional, menjadikannya bahan ideal untuk aplikasi yang memerlukan ketahanan aus yang baik.
Keunggulan Keramik AlN
* Very high thermal conductivity (>170 W/mK)
* High electrical insulation capacity (>1.1012Ωcm)
* Strength according to the double ring method >320 MPa (kekuatan biaksial)
* Ekspansi termal rendah 4 hingga 6x10-6K-1(antara 20 dan 1000 derajat )
* Kapasitas metalisasi yang baik
